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중소기업 기술로드맵 조회결과

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포토레지스트
* 발행 년도 : 2016년
1. 기술로드맵

포토레지스트 기술로드맵

2. 개요
가. 정의 및 범위

- 정의 : 포토레지스트(Photoresist)는 빛에 의한 광학적 반응을 이용하여 포토마스크에 미리 그려진 미세 패턴을 반도체 웨이퍼 상에 형상화 할 수 있는 감광성 화학약품

- 범위 : 포토레지스트는 파장에 대응한 제품별로 KrF포토레지스트, ArF포토레지스트, 이머전 ArF포토레지스트, EUV포토레지스트 등으로 분류

3. 시장현황 및 전망분석
가. 시장현황 및 전망
  • 2000년대부터 진행되고 있는 반도체 공정 미세화에 따른 반도체 노광공정에서 ArF 포토레지스트, KrF 포토레지스트 등의 소요량이 증가하여 연평균 5.9%의 성장률 보이며, 2020년에는 86억 57백만 달러로 성장 예상
    • 일반적으로 포토레지스트는 반도체 포토공정에 필름과 같은 역할을 하는 물질로 광원에 따라 각기 다른 포토레지스트를 사용하는 가운데 현재 주로 미세 공정에는 ArF 포토레지스트가 사용되나 3D NAND의 경우 계단공정 등에 KrF 포토레지스트가 이용
    • 특히 3D NAND가 32단에서 48단으로 변화하면서 계단공정이 50% 이상 증가하게 되어 해당 KrF 포토레지스트 사용량은 증가할 전망
[ 포토레지스트의 세계 시장규모 및 전망 ] (단위 : 백만 달러, %)
제품 시장현황 및 전망
구분‘15‘16‘17‘18‘19‘20CAGR
('13~'15)
세계시장 6,486 6,868 7,273 7,702 8,175 8,657 5.9
[ 포토레지스트의 국내 시장규모 및 전망 ] (단위 : 억 원, %)
제품 시장현황 및 전망
구분‘15‘16‘17‘18‘19‘20CAGR
('13~'15)
국내시장 971 995 1,020 1,045 1,071 1,098 2.5
4. 기술분석
가. 기술동향 분석

(1) 세계동향

  • 포토레지스트 기술의 지난 7년(‘10~’16) 간 출원동향14)을 살펴보면 ‘12년을 기점으로 증가추세에서 감소추세로 전환되었으나, 최근까지 출원건이 유지되고 있어 지속적으로 포토레지스트 관련 기술개발 활발
    • 각 국가별로 살펴보면 미국과 일본은 ‘12년도까지 점차로 증가추세를 보이다가 그 이후 감소하는 경향을 보이고 있으며, 한국과 유럽은 2010년 이후로 소폭 감소 추세
  • 국가별 출원비중을 살펴보면 미국이 전체의 55.4%로 최대 출원국으로 포토레지스트 기술에 리드하고 있는 것으로 나타났으며, 한국은 24.9%, 일본 15.7%, 유럽은 4.0% 순으로 나타남
포토레지스트 세계동향

(2) 국내동향

  • 국내 출원인 동향을 살펴보면 대기업은 삼성전자의 출원건수가 가장 높게 나타났으며, 중소기업에서는 엠코테크놀로지 주식회사의 출원건수가 높게 나타남
  • 기업 이외의 주요출원인을 살펴보면 한국과학기술원, 한국생산기술연구원, 한국기계연구원, 한국나노기술원, 한국세라믹기술원, 한국전자통신연구원, 전자부품연구원 등이 활발한 연구개발을 하고 있으며, 대학의 경우에는 서강대학교, 연세대학교, 전남대학교, 한양대학교, 한국산업기술 대학교, 광주과학기술원, 서울대학교, 성균관대학교 등 다양한 대학교에서 연구개발을 하고 있는 것이 특징으로 분석됨
5. 핵심요소기술 선정
  • 확정된 요소기술을 대상으로 산․학․연 전문가로 구성된 핵심기술 선정위원회를 통하여 중소기업에 적합한 핵심기술 선정
  • 핵심기술 선정은 기술개발시급성(10), 기술개발파급성(10), 단기개발가능성(10), 중소기업 적합성 (10)을 고려하여 평가

[ 포토레지스트 분야 핵심기술 ]

핵심요소기술 선정
분류핵심기술개요
포지티브형 PR 포지티브형 PR Resin 기술 포지티브형 레지스트용 수지 관련 기술
포지티브형 PR PAC/PGA 기술 포지티브형 레지스트용 광산 발생제 관련 기술
포지티브형 PR 용해억제제 기술 포지티브형 레지스트용 용해억제제 관련 기술
네거티브형 PR 네거티브형 PR Resin 기술 네거티브형 레지스트용 수지 관련 기술
네거티브형 PR PAC/PGA 기술 네거티브형 레지스트용 광산 발생제 관련 기술
광원별 PR Dry ArF용 Resist 기술 ArF용 PR 합성기술
Immersion ArF용 Resist 기술 Wet/H2O용 Resist 및 High Fluid용 Resist 합성기술
차세대 Resist 기술 EUV용 PR 및 DPT용 PR, 나노 임플란트용 PR, 폴리머 스탬프용 PR 등 차세대 PR 합성기술